分析仪器

PHI Versaprobe II XPS

PHI  Versaprobe II XPS

- Ulvac-Phi是世界领先的超高真空表面分析仪器供应商。Ulvac-Phi创新的XPS、AES和SIMS技术,提供客户以独有的工具来解决具挑战性的器材问题,从而令客户加快发展新产品和及新技术。作为提供全方位(面)的高性能XPS、AES和SIMS表面分析仪器的唯一供应商,向广泛高科技领域上的潜在客户(包括纳米技术、微电子技术、存储介质、催化、生物材料、药品; 基本材料如金属、矿物、聚合物、复合材料和涂料)提供完整的表面分析解决方案上,Ulvac-Phi具有独特的地位。

- X 射线光电子能谱(XPS)是材料科学和发展的领域中最广泛使用的表面分析技术。其原理是利用X射线束(一般会使铝阳极或镁阳极)作为入射源,照射在样品表面导致让光电子从原子的核心层被激发出。根据测得的光电子所发出的电子动能,再依照能量守恒定律就可以知道电子的结合能,从而也就可知道样品表面是何物质。

- The PHI 5000 Versaprobe II (VP-II) 能提供高性能的微区光谱,化学成像,二次电子成像,其最小的X射线束光栅扫描直径约为10微米。X射线束的大小可以轻易的使用电脑控制在直径10微米到400微米设定,从而达到最好的空间解释度与最高的灵敏度。VP-II 可以轻易的对不管是导体或非导体获取化学态的成像 或是离子溅射的深度分析,样品例子如催化剂,金属和电子设备,玻璃和聚合物,甚至是生物材料和组织等等。

- VP-II 维持了PHI 5000 Versaprobe的核心能力,包括扫描和聚焦 X 射线,专利的离子与电子双中和系统,以及可以在极低电压也可工作的高效能离子枪;另有可选项配置C60离子枪,提供了许多有机材料独特而强大的溅射深度剖析能力;另外,一个完全自动化的五轴样品操盘促进多个样品的自动分析并提供Zalar旋转“Zalar RotationTM”的能力,可配合氩气离子束或可选项配置的C60来进行溅射深度剖析。最后,全新的操作界面SMARTSOFT-XPS,提供多技术仪器控制一个易于使用的平台。在数据解释和操纵总结中,对VP-II 的性能有着明显的提高。

最小的X射线束:X射线源的产生,是经由使用一个聚焦的电子束扫描在铝阳极时,此产生的扫描X射线后再经由一石英晶体的单色器聚焦并反射样品表面。VP-II 所取得的最小X-ray探头尺寸是10um,当中完全不需要使用有任何风格的孔径,就可以以计算机控制X射线的大小。以下图片显示VP-II 上X射线束的聚焦和扫描性能。

精准的样品分析区域:以类似SEM功能的SXI 图像, 可以实时的显示样品的表面形貌。 用户可以很方便地导航SXI图像,然后很容易地以选择分析来定义分析的区域。即使在正常的照片图像中看不见的特征,从SXI 图像就或许可以很容易地被发现和定位。(以下图四作出共中实例)

最高的灵敏度与最小的X-ray束斑:PHI VersaProbe II是由获得专利的高通量X射线源来提供一个聚焦的X射线束,可根据样品表面扫描。

VP-II 多功能的技术平台:根据研发的需要,以下是 VP-II 的可选项配备
- 10keV的C60离子枪
- 双阳极,非单色X射线源
- 紫外线光源
- 95毫米的样品处理
- 热/冷样品处理
- 可选的AES电子枪
- 真空转移平台 (Vacuum Transfer Vessel)

Ulvac-Phi VP-II在纳米技术、微电子技术、存储介质、催化、生物材料、药品、基本材料如金属、矿物、聚合物、复合材料和涂料等方面提供完整的表面分析解决方案

包括表面的元素与化学态分析(氢和氦除外):
- 表面物种的化学状态的识别,包括有机和无机材料,导体和绝缘体。
- 深入薄膜中的组成元素分布概况,包括半导体、薄膜结构,磁介质薄膜,光学镀膜,装饰涂料,和耐磨涂层。
- 在必须避免会对电子束技术有破坏性效果时的样品成分分析。

包括专线服务支援和远程支持

专线服务支援时间:周一至周五 上午九点至下午五点三十五分

远程支持
我们的专员通过互联网连接到您的系统,利用远程访问进行实时支持。通过使用安全的电脑访问软件,您可以给予我们权限以作远程支持。当我们取得访问权限后,便能为您的仪器进行问题诊断、系统性能优化、软件升级,还可以提供一些培训。在每次断线后,我们需要再次得到您的授权才能够再次进行访问,故此控制权完全掌握在您的手中,能有效确保电脑的安全性。另外,通过远程支持,能大大减低系统停机时间,亦能使我们更了解问题,以规划更完善的维修计划,从而减低维修成本。