分析仪器

PHI 700Xi AES扫描俄歇纳米探针

PHI 700Xi AES扫描俄歇纳米探针

- Ulvac-Phi是世界领先的超高真空表面分析仪器供应商。Ulvac-Phi创新的XPS、AES和SIMS技术,提供客户以独有的工具来解决具挑战性的器材问题,从而令客户加快发展新产品和及新技术。作为提供全方位(面)的高性能XPS、AES和SIMS表面分析仪器的唯一供应商,向广泛高科技领域上的潜在客户(包括纳米技术、微电子技术、存储介质、催化、生物材料、药品; 基本材料如金属、矿物、聚合物、复合材料和涂料)提供完整的表面分析解决方案上,Ulvac-Phi具有独特的地位。

- 俄歇电子能谱仪(Auger Electron Spectrometer, AES)为微电子业常见的表面分析技术之一。原理是利用一电子束为激发源,使表面原子之内层能阶的电子游离出,原电子位置则会产生电洞,导致能量不稳定,此时外层电子会填补产生之电洞,进而释放能量传递至外层能阶电子,造成接受能量的电子被激发游离,游离的电子即为Auger电子。因其具有特定的动能,所以能依据动能的不同来判定材料表面的元素种类。

- PHI的700Xi纳米探针俄歇扫描 提供高性能的俄歇(AES)频谱分析,俄歇成像和溅射深度分析的复合材料包括:纳米材料,催化剂,金属和电子设备。维持基于PHI CMA的核心俄歇仪器性能,和响应了用户所要求以提高二次电子(SE)成像性能和高能量分辨率光谱。PHI的同轴镜分析仪(CMA)提供了同轴分析仪和电子枪的几何实现高灵敏度多角度广泛收集,以便完成三维结构图,在纳米级技术的发展这是最基础的。为了提高SE成像性能,闪烁探测器(Scintillator)已被添加以提高图像质量,另再加上数码按钮的用户界面再一次的提高了易用性。在不用修改CMA和仍维持俄歇在纳米分析的优势下,再添加了高能量分辨率光谱模式,使化学态分析的可能再大大的提高。总括来说,700Xi以优越的俄歇纳米探针从世界领先的俄歇表面分析仪器,提供了实用和成熟的技术,以满足纳米尺度所需要的广泛实验与研发的用途。

- 同轴电子枪和分析几何和高级的俄歇灵敏度:700Xi的场发射电子源提供了一个高亮度而直径小于6 nm的电子束以产生二次电子成像。700Xi的同轴几何使用了“同轴式分析器(CMA)”,促使高灵敏度俄歇通过广泛角度收集进行分析,即使样品是表面平滑或复杂的形状或高表面粗糙度,都可以确保迅速完成所有分析程序。

- 高稳定性成像平台:隔声外壳与振动隔离器提供更稳定的成像和分析。隔声外壳从真空控制面板降低频率范围从30赫兹到5K赫兹左右的20 dB的声压等级(SPL),稳定的温度大约降低系统造成SEM图像漂移。新的振动隔离器也减少了地面振动对扫描电镜图像和小面积分析的影响。

- 增强的SE图像用户界面:PHI700Xi增强SE成像性能,闪烁器检测器(Scintillator)已被添加在仪器上从而提高图像质量,加上数码按钮的用户界面更再次提高了使用的方便性。

- 新的高分辨率光谱模式:随着PHI的新技术,能量分辨率可调从0.5%到0.05%。多种化学物质的状态可以更容易有效的被观察出来。

- PHI SmartSoft-AES用户界面:PHI SmartSoft是一个操作仪器上为用户的需要而着想的软件界面。该软件是任务导向型和卷标在顶部的显示指引用户通过引入样品,分析点的定义,并设置了分析。多个位置分析可以定义和最佳范例的定位提供了一个强大的“自动Z轴调整”的功能。在广泛使用的软件设置,可让新手能够快速,方便地设置了测量,并在未来可以轻易的重复以往或常用的类似测量。

- 半导体组件 缺陷分析、蚀刻/清洁残余物分析、短路问题分析、接触污染物分析、接口扩散现象分析、封装问题分析等、FIB组件分析
- 显示器组件 缺陷分析、蚀刻/清洁残余物分析、短路问题分析、接触污染物分析、接口扩散现象分析等
- 磁性储存组件 定义层、表面元素、接口扩散分析、孔洞缺陷分析、表面污染物分析、磁头缺陷分析、残余物分析等
- 玻璃及陶瓷材料 表面沉积物分析、清洁污染物分析、晶界分析等

- 包括专线服务支援和远程支持

- 专线服务支援时间:周一至周五 上午九点至下午五点三十五分

- 远程支持
我们的专员通过互联网连接到您的系统,利用远程访问进行实时支持。通过使用安全的电脑访问软件,您可以给予我们权限以作远程支持。当我们取得访问权限后,便能为您的仪器进行问题诊断、系统性能优化、软件升级,还可以提供一些培训。在每次断线后,我们需要再次得到您的授权才能够再次进行访问,故此控制权完全掌握在您的手中,能有效确保电脑的安全性。另外,通过远程支持,能大大减低系统停机时间,亦能使我们更了解问题,以规划更完善的维修计划,从而减低维修成本。